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HI770微電腦二氧化硅(HR)濃度測定儀
簡要描述:

HI770微電腦二氧化硅(HR)濃度測定儀是用于現(xiàn)場二氧化硅的快速分析儀器,具有校零和測量過程一鍵完成功能。*CHECKTM性能核查功能,使用NIST二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)核查組定期對儀器進(jìn)行檢查。適用于實驗室和現(xiàn)場快速樣品分析測量。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2022-01-06
  • 訪  問  量:1986

詳細(xì)介紹

品牌HANNA/意大利哈納

HI770微電腦二氧化硅(HR)濃度測定儀產(chǎn)品簡介:

HI770微電腦二氧化硅(HR)濃度測定儀是用于現(xiàn)場二氧化硅的快速分析儀器,具有校零和測量過程一鍵完成功能。*CHECKTM性能核查功能,使用NIST二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)核查組定期對儀器進(jìn)行檢查。適用于實驗室和現(xiàn)場快速樣品分析測量。

HI770微電腦二氧化硅(HR)濃度測定儀主要特點:

1優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計,人性化確認(rèn)操作,保證儀器的良好校準(zhǔn)
2、易讀LCD顯示屏,人性化顯示界面,操作簡單、快捷
3、倒計時功能,試劑與樣品反應(yīng)時間*性,確保測量度
4、操作簡單,出廠前內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)曲線標(biāo)定,確保儀器性能*
5、高精度測量結(jié)果,光源防塵測量系統(tǒng),自動關(guān)機(jī)節(jié)電模式
6、優(yōu)良防水性能,適用于實驗室和現(xiàn)場快速樣品分析測量

HI770微電腦二氧化硅(HR)濃度測定儀技術(shù)參數(shù):

測量范圍

0 to 200 mg/ LppmSiO2

解析度

1 mg/Lppm

測量精度

讀數(shù)±5% ± 2 mg/L @ 25°C

測量方法

參照USEPA METHOD 370.1(適用于飲用水,海水,市政和工業(yè)廢水)和Standard Method 4500-SiO2 C標(biāo)準(zhǔn)方法

光學(xué)系統(tǒng)

定制接收器暨光源系統(tǒng)

電源模式

1×1.5V 電池,在測量模式下,10分鐘不用后自動關(guān)機(jī)

使用環(huán)境

0 to 50°C32 to 122°F),RH max 95%,無冷凝

尺寸重量

主機(jī)尺寸:81.5×61×37.5 mm;主機(jī)重量:64g

標(biāo)準(zhǔn)配置

HI770

主機(jī),HI770-25 二氧化硅試劑,HI731313H 定制玻璃比色皿(2個),HI731318 玻璃比色皿清潔布(2塊),中英文使用說明書,HI721025 定制攜帶盒

HI770C

主機(jī),HI770-25 二氧化硅試劑,HI770-11NIST二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)核查組,HI731313H 定制玻璃比色皿(2個),HI731318 玻璃比色皿清潔布(2塊),中英文使用說明書,HI721025 定制攜帶盒

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定制二氧化硅(HR)試劑

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HI740028

5#)電池

注:1、二氧化硅在溶解礦物質(zhì)的天然水體中存在。但在工業(yè)應(yīng)用中卻不希望有二氧化硅的存在,因為二氧化硅會引起結(jié)垢現(xiàn)象。特別是高壓管道中更易受二氧化硅的影響。加熱系統(tǒng)和反滲透工廠也有必要監(jiān)測二氧化硅。

2、儀器在使用一段時間后,儀器光學(xué)系統(tǒng)將會衰減,造成內(nèi)部設(shè)置的標(biāo)準(zhǔn)曲線會出現(xiàn)漂移,影響測量數(shù)據(jù)可靠性和準(zhǔn)確性。*CHECKTM性能核查功能,使用NIST二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)核查組定期(頻繁使用,1-3個月標(biāo)準(zhǔn)核查一次,常規(guī)情況下,半年標(biāo)準(zhǔn)核查一次)對儀器進(jìn)行檢查,測量值在NIST標(biāo)準(zhǔn)值范圍內(nèi),儀器光學(xué)系統(tǒng)為*,如果偏離標(biāo)準(zhǔn)值范圍較大,應(yīng)該及時送檢。

3、NIST二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)核查組,保存和使用應(yīng)在18 to 25°C64.5 to 77°F)溫度范圍內(nèi),非Hanna 品牌二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)核查組,并不能確保其標(biāo)準(zhǔn)值真實性。

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